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          LPCVD 立式


          所屬分類:

          第一代半導體工藝設備


          概要:

          ? LPCVD設備是半導體集成電路制造的重要設備之一, 主要用于多晶硅、氮化硅、氧化硅薄膜的生長,它是將原材料氣體(或者液態源氣化)用熱能激活發生化學反應而在基片表面生成固體薄膜,LPCVD過程是在低壓下進行的,由于氣壓低,氣體分子平均自由程大,使生長的薄膜均勻性好,此外基片可以豎放使得設備裝片量大,特別適用于工業化生產


          關鍵詞:

          LPCVD (立式/臥式)



          LPCVD 立式


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          PECVD 臥式

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